气体质量流量控制器（MFC）和质量流量计（MFM）用于对气体的质量流量进行精密控制和测量，气体质量流量的测量和控制不受温度或压力影响。
MFC 与 MFM 在半导体和集成电路工艺、特种材料学科、化学工业、石油工业、医药、环保和真空等多种领域的科研和生产中有着重要应用，其典型的应用场合包括：镀膜设备、微电子工艺设备，如扩散炉、氧化炉、外延炉、CVD、等离子刻蚀机、溅射台、离子注入机等；光纤熔炼、微反应装置、混气配气系统、生物发酵系统、石油化工设备、气相色谱仪及其它分析仪器。
项目 | 参数 |
流量精度 | ±1%F.S |
重复性 | ±0.2%F.S |
控制范围 | 2%~100%F.S |
响应时间 | <1.5s |
温度系数 | Zero:<0.05%ofF.S./C.Span:<0.1%ofS.P./℃ |
压力系数 | 0.2%ofS.P./Bar |
工作温度 | 0~50℃ |
泄漏率 | 1x10-9 atm,cc/sec He |
预热时间 | 5min精度达到士5%F.S(30 min达到最佳精度) |
